下压式抹光机构

授权

摘要

本实用新型提供一种下压式抹光机构，包括安装座，安装座的顶部垂直设置有中心轴，中心轴的外部沿其轴向滑动套装有滑套，滑套的下端设置有环槽，滑套上方的中心轴的外侧套装有盖板，盖板与滑套之间通过压力轴承转动连接，盖板的上方设置有驱动其沿中心轴向下移动的下压装置，安装座的顶部绕其中心圆周阵列有至少两个抹光组件，抹光组件具有支臂，支臂的一端设置有与环槽相匹配的摆轴，支臂上垂直设置有与安装座相铰接的铰接臂；本实用新型的结构合理，安装座与中心轴采用铸造方式一体成型，强度高，易于加工；盖板与滑套之间通过压力轴承转动连接，能够承受较大的轴向力，同时能够减小盖板与滑套之间的磨损，降低维护工作量及使用成本。

基本信息

专利标题：

下压式抹光机构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022219928.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-09

授权号：

CN213654145U

授权日：

2021-07-09

发明人：

贾广德

申请人：

贾广德

申请人地址：

河南省许昌市长葛市坡胡镇东胡村2组

代理机构：

郑州科硕专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

卢化磊

优先权：

CN202022219928.2

主分类号：

E04F21/24

IPC分类号：

E04F21/24