一种新型简易防辐射屏障
授权
摘要
本实用新型公开了一种新型简易防辐射屏障，包括底座与上限定架，所述底座上表面中部横向固定安装有主边框，所述主边框的上缘固定安装有上限定架，所述底座的上表面开设有两条平行的下滑槽，且两条所述的下滑槽沿主边框的中线对称，所述上限定架的下表面开设有两条平行的上滑槽，两条所述的上滑槽沿主边框的中线对称，后侧所述的下滑槽内滑动安装有第一副边框的下缘，所述第一副边框的上缘滑动安装于后侧的上滑槽内；通过万向轮的安装使得整个装置方便进行移动，而主边框内的主屏蔽板实现了主要的屏蔽效果，而第一副屏蔽板在第一副边框的带动下进行延展，第二副屏蔽板在第二副边框的带动下进行延展，整体能够根据需求进行屏蔽幅面的延展。
基本信息
专利标题 ：
一种新型简易防辐射屏障
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022252580.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-12
授权号 ：
CN213183621U
授权日 ：
2021-05-11
发明人 ：
张瑞徐江袁武梅杨丽石峰曾妍吴江东丁海涛
申请人 ：
石河子大学
申请人地址 ：
新疆维吾尔自治区石河子市北四路221号
代理机构 ：
北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孟阿妮
优先权 ：
CN202022252580.7
主分类号 ：
G21F3/00
IPC分类号 ：
G21F3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F3/00
以其物理形态或材料的形状为特征的防护物
法律状态
2021-05-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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