一种控制基坑变形的构造
授权
摘要
本实用新型公开了一种控制基坑变形的构造，该构造包括沿着基坑周边设置的围护体，在围护体内侧设置有内支撑，在基坑内且垂直于基坑长边方向设置有连续的地中壁，所述地中壁是由下部的配筋地下连续墙和上部的素混凝土地下连续墙组成。本实用新型利用地中壁控制基坑变形，解决深基坑变形对周边环境的破坏，既满足基坑施工安全要求，避免基坑变形较大对周边环境的影响，又有利于降低工程造价。
基本信息
专利标题 ：
一种控制基坑变形的构造
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022258198.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-12
授权号 ：
CN212896389U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
刘礼昕苗恩新柏志诚翁翔顾金雨
申请人 ：
中国建筑第四工程局有限公司;中建四局第六建设有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市天河区科韵路16号广州信息港B座4楼
代理机构 ：
贵阳中新专利商标事务所
代理人 ：
朱法恒
优先权 ：
CN202022258198.7
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04 E02D5/18
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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