辐射集水槽安装高程精确控制装置
授权
摘要
本实用新型公开了辐射集水槽安装高程精确控制装置，包括预设墙、常规集水槽和环形集水槽，所述预设墙位于环形集水槽的一侧，所述常规集水槽位于预设墙和环形集水槽之间，所述预设墙靠近环形集水槽的一侧位于常规集水槽的下端固定设置有角钢，所述角钢远离预设墙的一侧靠前端和靠后端均固定设置有加强块，所述角钢远离预设墙的一侧在两个加强块的前端和后端均设置有二号螺杆，两个所述二号螺杆靠近角钢的一端均贯穿角钢和预设墙固定设置在预设墙的内部。本实用新型公开了辐射集水槽安装高程精确控制装置，该新型辐射集水槽安装高程精确控制装置操作方便，节省时间，精确度高。
基本信息
专利标题 ：
辐射集水槽安装高程精确控制装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022266837.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-13
授权号 ：
CN213448804U
授权日 ：
2021-06-15
发明人 ：
于娇娇仇立发张永军岳仁峰孙明臣尹福鑫王乐马骏东田磊孟民宋健李曼
申请人 ：
北京市政建设集团有限责任公司
申请人地址 ：
北京市西城区南礼士路17号
代理机构 ：
北京壹川鸣知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
林潮
优先权 ：
CN202022266837.4
主分类号 ：
E03F5/10
IPC分类号 ：
E03F5/10 E04G21/18
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E03
给水；排水
E03F
下水道，污水井
E03F5/00
排水构筑物
E03F5/10
集水池；调节径流量的平衡池；蓄水池
法律状态
2021-06-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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