一种热障涂层装置
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摘要
本实用新型公开了一种热障涂层装置，包括等离子喷枪、样品台、送粉器、真空泵、电源、过滤除尘系统、中央控制器、冷却系统、真空工作室。所述等离子喷枪焊接在所述样品台上面，所述等离子喷枪与所述样品台共同位于所述真空工作室内部，所述送粉器左侧设置有所述真空泵，所述过滤除尘系统左侧安装有送粉器，所述冷却系统左侧设置有所述真空工作室，所述真空工作室连接有所述电源，所述中央控制器上方设置有所述真空工作室。该装置兼具等离子喷涂和电子束物理气相沉积技术的优点，可在超真空下将喷涂材料气化，实现非视线沉积，并能制备出片状、柱状晶、片状和柱状晶复合的多种涂层结构，使得工件热障涂层结构、组织实现均匀性沉积。
基本信息
专利标题 ：
一种热障涂层装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022277950.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-14
授权号 ：
CN213507160U
授权日 ：
2021-06-22
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
重庆多弧科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市江津区双福街道南北大道北段390号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022277950.2
主分类号 ：
C23C4/134
IPC分类号 ：
C23C4/134 C23C4/137
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4/00
熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆（堆焊入B23K，例如B23K5/18，B23K9/04
C23C4/04
以镀覆材料为特征的
C23C4/134
等离子喷涂
法律状态
2021-06-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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