气泡处理装置
授权
摘要
本申请公开了一种气泡处理装置，包括石英槽，所述石英槽的底部中心设有清洗装置，所述石英槽两侧的石英槽内设有一对支撑块，所述清洗装置的上方设有喷吹管，所述喷吹管的一端密闭，所述喷吹管的另一端连接有竖直设置的软管接头，所述喷吹管的喷吹孔向上设置。该处理装置通过喷吹管对花篮底面进行喷吹，进而与产生的气泡形成对冲，从而去除气泡，达到良好的清洗效果。
基本信息
专利标题 ：
气泡处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022286499.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-14
授权号 ：
CN212967623U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
陈宏陆进进吴佳杰
申请人 ：
张家港市超声电气有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市张家港市金港大道1001号张家港市超声电气有限公司
代理机构 ：
苏州市港澄专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
许莉莉
优先权 ：
CN202022286499.0
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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