一种新型磁流变抛光轮系统
授权
摘要
本实用新型涉及抛光设备技术领域，具体地说，涉及一种新型磁流变抛光轮系统，包括两个平行设置的定位板，定位板的顶部设置有顶板，定位板的上部之间设置有磁场发生器，定位板的下部之间设置有抛光轮，抛光轮为圆柱体结构，一侧定位板的外侧设置有皮带，另一侧定位板的外侧设置有电机，皮带的上下两端设置有皮带轮，电机的输出端与上部的皮带轮传动连接，抛光轮的中部贯穿设置有内轴。本实用新型的设计通过圆柱形的抛光轮能够减小抛光面，并减小抛光轮加工生产难度，提高磁流变抛光系统加工精度，且通过双臂式的抛光轮方式提高抛光轮刚度，增加抛光轮运动抗震性，提高抛光轮运动稳定性，此外，各个部件便于安装和拆卸，方便更换抛光轮及维护。
基本信息
专利标题 ：
一种新型磁流变抛光轮系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022288575.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-15
授权号 ：
CN213561455U
授权日 ：
2021-06-29
发明人 ：
陈永富丁杰陶尚
申请人 ：
长沙埃福思科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市开福区青竹湖街道青竹湖路118号金卓产业园7号小型仪表装配厂房101一楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022288575.1
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B29/00 B24B57/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2021-06-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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