一种容积连续变化的吸枪头及漏点检测系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种容积连续变化的吸枪头,包括包裹待检测件的密封爪,所述密封爪包括多个沿周向均匀围绕设置的圆柱状骨架,所述骨架一端与一缩放环铰接连接,骨架的另一端向密封爪内部弯曲,密封爪上套设有限制密封爪半径上下限的限位盘,所述限位盘的中心设置有出气口,密封爪的外侧设置有密封膜,所述密封膜与出气口的边缘密封连接。本实用新型还提供了使用所述的吸枪头的漏点检测系统,所述密封爪包裹待检测件,出气口通过出气管连通氦质谱仪,待检测件连接有高压氦气源,出气管上设置标准漏孔。本实用新型的优点在于:通过密封爪包裹待检测件,不限于规则形状,适应性强,密封爪的端部与缩放环连接,能够连续改变密封爪的容积。
基本信息
专利标题 :
一种容积连续变化的吸枪头及漏点检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022288613.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-13
授权号 :
CN213239364U
授权日 :
2021-05-18
发明人 :
唐宁谢远来胡纯栋陶玲汪金新张进新郎嘉琪王铭翔刘晓雪
申请人 :
中国科学院合肥物质科学研究院;中国科学技术大学
申请人地址 :
安徽省合肥市蜀山区蜀山湖路350号
代理机构 :
合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张祥
优先权 :
CN202022288613.3
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2021-05-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载