本实用新型公开了一种化学原料匀速研磨装置，包括底板，所述底板上表面设有固定板，所述固定板侧面滑动设有滑板，所述滑板侧面设有第四转杆，所述第四转杆端部转动连接有第一限位杆，所述第一限位杆端部固定连接有连接块，所述连接块端部设有第二限位杆，所述第一限位杆端部设有第一限位块，所述滑板侧面设有第一转杆，所述第一转杆端部设有转环，所述转环与第一限位块转动连接，所述第二限位杆端部设有第二限位块，所述第二限位块上表面设有电机，所述蜗轮能够和蜗杆啮合，所述滑板侧面设有第二转杆，通过电机带动蜗杆，从而带动转盘转动，使得研磨棒转动对化学原料进行研磨，可通过调整电机使得研磨棒保持匀速转动，满足研磨要求。