一种扩散炉净化台净化系统
授权
摘要
一种扩散炉净化台净化系统，包括净化台框架和净化装置，所述净化装置包括空气过滤净化器、风机以及进风口构成；所述空气过滤净化器、风机以及进风口设置于净化台框架的上方；本实用新型通过设置空气过滤净化器对进入搬舟结构的气体进行净化，其一能够有效防止空气中过得灰尘等杂质对硅片的生产工艺产生影响，其二能够提高硅片的散热效率，且本实用新型通过将气流的导入口和到出口分别设置于空气过滤净化器的侧面以及风口的侧面，有效防止灰尘等杂质顺着导入口或导出口进入搬舟结构的内部。
基本信息
专利标题 ：
一种扩散炉净化台净化系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022319475.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-17
授权号 ：
CN213242498U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
刘群庞爱锁林佳继郭永胜林依婷
申请人 ：
深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区坑梓街道吉康路1号
代理机构 ：
杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
董世博
优先权 ：
CN202022319475.0
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
