光学陀螺用磁屏蔽壳体

授权

摘要

本实用新型属于屏蔽外界地磁场的制造技术领域，具体涉及一种光学陀螺用磁屏蔽壳体。特别适用屏蔽外界地磁场，从而形成没有磁场空间，从而保障光学陀螺的精度。该磁屏蔽器件组成：合计五层结构，分别三层聚酰亚胺和两层钴基非晶，轮流交替填充，高导磁钴基非晶作为磁屏蔽层，起到屏蔽外界磁场的作用，两层钴基非晶中的聚酰亚胺作为隔离层，避免两层钴基非晶相互作用，从而提高磁屏蔽效能，最外层聚酰亚胺用于保护内部磁屏蔽层，同时起到结构支撑作用。使用时，该种材料直接制成多种磁屏蔽结构，可以直接作为结构体使用，同时起到屏蔽外界磁场作用。本实用新型与现有技术相比，具有成型方便，重量轻，同时磁屏蔽效果优异等特点。

基本信息

专利标题：

光学陀螺用磁屏蔽壳体

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022352347.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-21

授权号：

CN214177912U

授权日：

2021-09-10

发明人：

张辉蒋军彪白亮杨锋唐峰薛耀辉李毅王晓章李晓李壮李冉朱弢

申请人：

西安现代控制技术研究所

申请人地址：

陕西省西安市雁塔区丈八东路10号

代理机构：

中国兵器工业集团公司专利中心

代理人：

周恒

优先权：

CN202022352347.6

主分类号：

H05K9/00

IPC分类号：

H05K9/00