本实用新型涉及足浴盆技术领域，具体涉及一种足浴器给排水循环装置，包括足浴器和设置在足浴器下端的给排水循环系统，足浴器的底部对称设有装配槽，每个装配槽的底部均设有呈阶梯分布的排水槽，且相邻的两个排水槽之间连通，并呈斜面过渡，足浴器的底部设有横槽，横槽的端部与装配槽中最末端的排水槽连通，足浴器的底部设有过滤槽，横槽的中段与过滤槽相连通，且过滤槽的底部设有排水口；给排水系统包括花洒、水泵、加热器、三通阀和开关调节组件，本实用新型结构简单，可根据需要进行灵活的调节，实现对水的循环加热和对水的排出，排水槽、横槽及其过滤槽的配合使用，便于将水全部排出，减少了残留量；提高了用户的足浴效果。