一种测试腔体密封结构及气体渗透测试设备

授权

摘要

本实用新型提供了一种测试腔体密封结构及气体渗透测试设备，密封结构包括分别带有开口的第一测试腔体和第二测试腔体，第一测试腔体和第二测试腔体包括至少一组密封结构，每组密封结构包括一个密封圈和一个密封件，密封圈和密封件之间用于放置试样；密封圈设置在绕第一腔体开口的第一凹槽内，密封件设置在绕第二腔体开口的第二凹槽内，且第一凹槽与第二凹槽相对设置；本实用新型能够保证在不使用密封油脂的情况下，实现对测试样品边缘的密封，避免了使用密封油脂带来的污染，降低了测试误差，提高了测试精度。

基本信息

专利标题：

一种测试腔体密封结构及气体渗透测试设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022482995.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-30

授权号：

CN214066855U

授权日：

2021-08-27

发明人：

姜允中

申请人：

济南兰光机电技术有限公司

申请人地址：

山东省济南市天桥区无影山路144号

代理机构：

济南圣达知识产权代理有限公司

代理人：

张勇

优先权：

CN202022482995.3

主分类号：

G01N15/08

IPC分类号：

G01N15/08 F16J15/10