一种圆柱靶磁铁顶出装置
授权
摘要
本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，公开了一种圆柱靶磁铁顶出装置，包括靶材，所述靶材的内侧设置有极靴，所述极靴的外侧固定连接有若干个伸缩器，所述伸缩器的外侧设置连接有磁铁，所述磁铁的底部固定连接有连接板，所述连接板的底部固定连接有连接柱，所述连接柱的底部设置连接有固定柱，所述连接柱的外侧固定连接有复位弹簧，且连接柱的内侧固定连接有润滑层，所述连接柱的内侧底端固定连接有限位板。本实用新型通过连接柱、复位弹簧、极靴和磁铁，当极靴内腔增大气压，安装在连接柱上的磁铁被压缩，连接柱带动磁铁向外伸出，当气压减小，复位弹簧还原到初始状态，连接柱缩回，便于工作人员的使用。
基本信息
专利标题 ：
一种圆柱靶磁铁顶出装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022508273.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-11-03
授权号 ：
CN214193437U
授权日 ：
2021-09-14
发明人 ：
赵岩苗润财苗润发苗伟伟王健
申请人 ：
上海繁枫真空科技有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区金山工业区亭卫公路3877号2幢305室
代理机构 ：
上海互顺专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
成秋丽
优先权 ：
CN202022508273.0
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-09-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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