一种像素结构、阵列基板以及显示装置
授权
摘要
本申请公开了一种像素结构、阵列基板以及显示装置,所述像素结构包括:像素电极;多条扫描线和多条数据线,所述扫描线和所述数据线交错围合成像素区,所述像素电极设置在所述像素区;以及公共电极,所述公共电极沿所述像素电极的边缘设置,所述公共电极位于所述扫描线与所述像素电极之间;其中,所述公共电极至少在与所述扫描线相邻的位置设有修正部,所述修正部增大所述公共电极与所述扫描线之间的间隙。通过所述公共电极在与扫描线的相邻位置处设置修正部,当所述扫描线与所述公共电极相邻的位置发生部分重叠时,可将所述修正部裁剪掉,使得扫描线与公共电极之间的间距增大,将短路位置断开,不影响所述像素结构的正常使用。
基本信息
专利标题 :
一种像素结构、阵列基板以及显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022556026.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-11-05
授权号 :
CN213634066U
授权日 :
2021-07-06
发明人 :
杨艳娜李伟
申请人 :
惠科股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民营工业园惠科工业园厂房1、2、3栋,九州阳光1号厂房5、7楼
代理机构 :
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 :
晏波
优先权 :
CN202022556026.8
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362 G02F1/13 G02F1/1343
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2021-07-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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