阵列基板及其制备方法、显示面板和背光模组
实质审查的生效
摘要

本公开提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板和背光模组,属于显示技术领域。该阵列基板的制备方法包括:提供衬底基板;在所述衬底基板的一侧形成金属布线层,所述金属布线层包括第一铜金属层,所述第一铜金属层的厚度不大于1微米;在所述金属布线层远离所述衬底基板的一侧形成平坦化层;在所述平坦化层远离所述衬底基板的一侧形成驱动引线层,且所述驱动引线层与所述金属布线层电连接;所述驱动引线层包括第二铜金属层,所述第二铜金属层的厚度大于1微米;在所述驱动引线层远离所述衬底基板的一侧设置功能器件层,所述功能器件层与所述金属布线层或者所述驱动引线层电连接。该制备方法能够避免衬底基板出现翘曲。

基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制备方法、显示面板和背光模组
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114556203A
申请号 :
CN202080002010.2
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2020-09-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
曹占锋王珂梁志伟汪建国张国才卢鑫泓齐琪
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 :
王辉
优先权 :
CN202080002010.2
主分类号 :
G02F1/13357
IPC分类号 :
G02F1/13357  H01L27/15  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1334
基于聚合物分散型液晶,例如微囊密封型液晶的
G02F1/13357
照明装置
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/13357
申请日 : 20200918
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332