书写轨迹处理方法、触控设备、书写系统及存储介质
公开
摘要
一种书写轨迹处理方法、触控设备、书写系统及存储介质，所述书写轨迹处理方法，包括：获得原始书写轨迹的书写数据，其中，所述书写数据包括：多个第一轨迹点以及与所述多个第一轨迹点一一对应的多个第一接触面积；对所述书写数据进行平滑处理，得到平滑后的书写数据，其中，所述平滑后的书写数据包括：多个第二轨迹点以及与所述多个第二轨迹点一一对应的多个第二接触面积；基于所述多个第二接触面积，确定与所述多个第二轨迹点一一对应的多个轨迹线宽；基于所述多个第二轨迹点和所述多个轨迹线宽，显示书写轨迹。
基本信息
专利标题 ：
书写轨迹处理方法、触控设备、书写系统及存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114585992A
申请号 ：
CN202080002199.5
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
薛瑞彬
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
解婷婷
优先权 ：
CN202080002199.5
主分类号 ：
G06F3/041
IPC分类号 ：
G06F3/041
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F3/00
用于将所要处理的数据转变成为计算机能够处理的形式的输入装置；用于将数据从处理机传送到输出设备的输出装置，例如，接口装置
G06F3/01
用于用户和计算机之间交互的输入装置或输入和输出组合装置
G06F3/03
将部件的位置或位移转换成为代码形式的装置
G06F3/041
以转换方式为特点的数字转换器，例如，触摸屏或触摸垫，特点在于转换方法
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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