陶瓷阴离子交换材料
实质审查的生效
摘要

提供了包含基于二氧化硅的陶瓷的阴离子交换膜和阴离子交换材料,以及相关方法。在一些方面中,描述了阴离子交换膜,其包含在多孔支撑膜上和/或在多孔支撑膜内形成涂层的基于二氧化硅的陶瓷。阴离子交换膜和阴离子交换材料可以具有某些结构或化学属性(例如,孔尺寸/分布、化学官能化),其单独或组合可以在期望使带正电荷的离子选择性传输通过膜/材料的各种应用的任意者中产生有利的性能特性。在一些实施方案中,基于二氧化硅的陶瓷包含可以有助于一些这样的有利特性的相对小的孔(例如,基本上为球形的纳米孔)。在一些实施方案中,阴离子交换膜或阴离子交换材料包含与基于二氧化硅的陶瓷共价键合的季铵基团。

基本信息
专利标题 :
陶瓷阴离子交换材料
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114502264A
申请号 :
CN202080048352.8
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2020-06-03
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
格雷戈里·马修·纽布卢姆奥利维娅·玛丽·伦茨菲利普·里夫斯·皮克特拉谢尔·亚历克西斯·马隆斯特凡妮·林恩·坎德拉里亚张毅恒凯瑟琳·林恩·科尔普阿迪蒂亚·阿肖克·萨伦基
申请人 :
门布里翁有限公司
申请人地址 :
美国华盛顿州
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
梁笑
优先权 :
CN202080048352.8
主分类号 :
B01D71/02
IPC分类号 :
B01D71/02  B01D61/42  B01D69/02  B01D69/12  H01M8/1246  H01M8/18  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D71/00
以材料为特征的用于分离工艺或设备的半透膜;其专用制备方法
B01D71/02
无机材料
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 71/02
申请日 : 20200603
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332