口罩用抗微生物染料
公开
摘要
一种抗微生物口罩，其包含产生单线态氧的光敏染料，其中所述染料是阳离子酞菁。优选地，酞菁具有以下化学式：(化学式1)，M＝铝、钛或锌，R＝R’(a)或R”(b)，R’＝氧连接的苯基或吡啶基、R”＝氧连接的苯基、吡啶基或N‑烷基化吡啶鎓，并且a+b＝4，b＝1至4，X＝Cl‑、Br‑、I‑、甲烷磺酸根、乙烷磺酸根、甲酸根、醋酸根或其它无机的或有机的反离子或其混合物；并且其中吡啶氮上的烷基化是任选支化的C1‑C8烷基。进一步任选地，其中烷基链是羟基化的或氟化的。
基本信息
专利标题 ：
口罩用抗微生物染料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114375317A
申请号 ：
CN202080048593.2
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2020-07-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马克·威尔金森保罗·怀特
申请人 ：
化学智能公司
申请人地址 ：
英国剑桥
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
刘明海
优先权 ：
CN202080048593.2
主分类号 ：
C09B47/32
IPC分类号 ：
C09B47/32 C09B47/067 C09B47/06 C09B47/04 A41D13/11 A01N43/90 A01N59/00 A61L2/08 D06P1/14 D06M13/503 D06M13/188 A01P1/00 A01P3/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09B
有机染料或用于制造染料的有关化合物；媒染剂；色淀
C09B47/00
卟吩；吖卟吩
C09B47/04
酞菁类
C09B47/32
阳离子的酞菁染料
法律状态
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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