光电设备及其制造方法
实质审查的生效
摘要
一种光电设备(1)，包括具有光敏结构(4)的衬底(2)和在衬底(2)的主表面(3)上的介电层(5)，介电层(5)具有背离衬底(2)的顶部表面(6)。至少一个布线层(7)布置在介电层(5)中的一些位置，并且至少一个接触区(9)由至少一个布线层(7)的一部分形成。开口(11)形成在介电层(5)的顶部表面(6)处，开口(11)朝向接触区(9)延伸。光学元件(12)布置在光敏结构(4)上方、介质层(5)的顶部表面(6)上，并且光学滤波器(13)布置在介电层(5)的顶部表面(6)上，光学滤波器(13)是导电的、覆盖光学元件(12)的一部分并且与接触区(9)电接触。此外，提供了一种用于制造光电设备(1)的方法。
基本信息
专利标题 ：
光电设备及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114521292A
申请号 ：
CN202080057069.1
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2020-07-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
帕特里克·佩特尔格哈德·艾尔姆施泰纳
申请人 ：
AMS有限公司
申请人地址 ：
奥地利普伦斯塔滕
代理机构 ：
北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
程强
优先权 ：
CN202080057069.1
主分类号 ：
H01L27/146
IPC分类号 ：
H01L27/146 H01L31/0203 H01L31/0216
法律状态
2022-06-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/146
申请日 : 20200721
申请日 : 20200721
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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