二氧化硅垢抑制剂
实质审查的生效
摘要
通过使用包括非离子聚醚和单体型聚羧酸系的抑制剂的组合来稳定诸如在地热单元中的工业水来阻止二氧化硅聚合和絮凝。
基本信息
专利标题 ：
二氧化硅垢抑制剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114340766A
申请号 ：
CN202080057143.X
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-07-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·A·托德
申请人 ：
索理思科技开曼公司
申请人地址 ：
开曼群岛大开曼岛
代理机构 ：
北京洛科寰宇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙梵
优先权 ：
CN202080057143.X
主分类号 ：
B01D61/02
IPC分类号 ：
B01D61/02 B01D61/14 B01D61/58
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D61/00
利用半透膜分离的方法，例如渗析，渗透，超滤；其专用设备，辅助设备或辅助操作
B01D61/02
反渗透；逆渗透
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 61/02
申请日 : 20200729
申请日 : 20200729
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
