用于在掠入射光学单元上施加碳基反射性外涂层的方法
公开
摘要
用于在掠入射光学单元上施加碳基反射性外涂层的方法，所述掠入射光学单元包括基底以及选自金、铂、铱、钯、铑、钌、铬和镍的高密度材料或低密度材料例如碳或B4C的涂层；该方法包括用含有至少一种聚合物前体材料的溶液或气相处理光学单元以通过在涂层上吸收聚合物材料来产生外涂层的步骤。
基本信息
专利标题 ：
用于在掠入射光学单元上施加碳基反射性外涂层的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114616634A
申请号 ：
CN202080057263.X
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-08-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
乔瓦尼·帕雷斯基玛尔塔·玛丽亚·西维塔尼乔治亚·西罗尼朱塞佩·瓦尔塞基卢卡·麦格尼尤金尼奥·吉贝蒂尼
申请人 ：
意大利国家天文物理研究所;米兰理工大学;米提亚拉里奥（股份）责任有限公司
申请人地址 ：
意大利罗马
代理机构 ：
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王达佐
优先权 ：
CN202080057263.X
主分类号 ：
G21K1/06
IPC分类号 ：
G21K1/06 G02B5/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置，如聚焦或慢化
G21K1/06
应用衍射、折射或反射，如单色仪
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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