层流限制器
公开
摘要
用于控制气流的设备是输送用于半导体制造的工艺气体的重要部件。这些用于控制气流的设备经常依赖于流量限制器，该流量限制器可以提供工艺气体的已知流动阻抗。在一个实施例中，公开了一种流量限制器，该流量限制器由多个层构成，其中一个或多个层具有从该流量限制器的第一端处的第一孔延伸到位于该流量限制器的第二端处的第二孔的流动通道。
基本信息
专利标题 ：
层流限制器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114586477A
申请号 ：
CN202080057722.4
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-08-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
肖恩·约瑟夫·彭利扎卡赖亚·伊齐基尔·麦金太尔泰勒·詹姆斯·赖特
申请人 ：
艾科系统公司
申请人地址 ：
美国得克萨斯州78728奥斯汀市帕克路200C号600室
代理机构 ：
北京京万通知识产权代理有限公司
代理人 ：
许天易
优先权 ：
CN202080057722.4
主分类号 ：
H05K7/20
IPC分类号 ：
H05K7/20 F21V29/50 F21V29/57 F21V29/60 F21V29/61 F28D9/00 F28F3/00
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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