周期性UVC配给
公开
摘要
一种用于对水进行消毒的光反应器包括至少一个壁，所述至少一个壁限定了被配置为容纳流体的腔室。反应器还包括供水流入所述腔室的入口和供水离开所述腔室的出口。反应器还包括UVC LED。LED被配置为在激活持续时间内通电，并且在未激活持续时间内断电。所述激活持续时间和所述未激活持续时间限定一周期。所述反应器还包括控制器，所述控制器被配置为设置所述周期的占空比，其中所述占空比是所述激活持续时间与所述周期的比率。占空比小于或等于约1：100。
基本信息
专利标题 ：
周期性UVC配给
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114599611A
申请号 ：
CN202080059456.9
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-08-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
C·斯库利A·W·米勒R·M·玛丽塔L·J·朔瓦尔特
申请人 ：
晶体公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
付林
优先权 ：
CN202080059456.9
主分类号 ：
C02F1/32
IPC分类号 ：
C02F1/32 A61L2/10 A61L2/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/30
辐射法
C02F1/32
用紫外线的
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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