投影方法、投影装置以及投影系统
实质审查的生效
摘要
一种投影方法，是投影装置执行的投影方法，用于将建筑物的图样数据投影到正在建设的建筑物的投影面，所述投影方法包括以下步骤：测距步骤(S11)，使用投影装置所具备的测距部，测量从分别位于投影面上的不平行的两条直线中的任一条直线上且不排列成一条直线的三个以上的点中的各点到投影装置的距离；以及投影步骤(S15)，将图样数据投影到基于测量出的距离和测量出该距离时的测距部的角度而确定的投影面上的投影位置。
基本信息
专利标题 ：
投影方法、投影装置以及投影系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114342363A
申请号 ：
CN202080059909.8
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-08-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
西哲也林勇树原启介
申请人 ：
松下知识产权经营株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202080059909.8
主分类号 ：
H04N9/31
IPC分类号 ：
H04N9/31
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 9/31
申请日 : 20200804
申请日 : 20200804
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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