计量系统和方法
实质审查的生效
摘要
本文描述了确定与衬底相关联的套刻测量的方法和获得与图案化工艺相关联的套刻测量的系统。一种用于确定套刻测量的方法可用于光刻图案化工艺中。该方法包括通过使用相干束照射第一套刻图案和第二套刻图案来产生衍射信号。该方法还包括基于衍射信号获得干涉图案。该方法还包括基于干涉图案确定第一套刻图案和第二套刻图案之间的套刻测量。
基本信息
专利标题 ：
计量系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341739A
申请号 ：
CN202080060240.4
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-08-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
T·M·T·A·M·埃拉扎雷S·R·惠斯曼J·L·克鲁泽S·A·戈登
申请人 ：
ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080060240.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200825
申请日 : 20200825
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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