稀溶液制造装置
公开
摘要
本发明提供一种稀溶液制造装置，向超纯水等第一液体中微量添加含导电性赋予物质或氧化还原电位调整物质的第二液体，能够稳定制造规定浓度的稀溶液。稀溶液制造装置通过向第一液体添加含导电性赋予物质和氧化还原电位调整物质中的至少一方的第二液体来制造该第二液体的稀溶液，其中，具备：第一配管(1)，流过所述第一液体；泵(6)，经由第二配管(5)向所述第一配管(1)内添加所述第二液体；脱气配管(8)，从该泵(6)脱气；水质传感器(11)，由导电率计、电阻率计或氧化还原电位计构成；以及控制装置(12)，在该水质传感器(11)的水质检测值变动规定值以上时打开脱气阀(9)。
基本信息
专利标题 ：
稀溶液制造装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114340772A
申请号 ：
CN202080060382.0
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小川祐一
申请人 ：
栗田工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
隆天知识产权代理有限公司
代理人 ：
宋晓宝
优先权 ：
CN202080060382.0
主分类号 ：
B01F23/40
IPC分类号 ：
B01F23/40 B01D19/00
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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