用于光束位置监测和光束成像的系统、设备和方法
公开
摘要
系统、设备和方法的实施例涉及用于检测光束线中的光束未对准的快速光束位置监测。在示例中，快速光束位置监测器包括延伸到光束线的组件的内部的多个电极。快速光束位置监测器被配置为基于束晕电流检测穿过光束线的组件的光束的位置。系统、设备和方法的实施例还涉及非侵入性地监测沿着光束线前进的光束的监测参数。在示例中，气体沿着光束线被喷吹入泵送室。根据由前进通过光束线的光束的高能光束粒子的碰撞引起的荧光来测量一个或多个光束参数。
基本信息
专利标题 ：
用于光束位置监测和光束成像的系统、设备和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114599426A
申请号 ：
CN202080061006.3
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
V·维克塞尔曼A·杜纳耶夫斯基
申请人 ：
TAE技术公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
于静
优先权 ：
CN202080061006.3
主分类号 ：
A61N5/10
IPC分类号 ：
A61N5/10 A61N5/00 H01J3/14 H01J3/00
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61N
电疗；磁疗；放射疗；超声波疗
A61N5/00
放射疗
A61N5/10
X射线治疗法，γ射线治疗法；粒子照射疗法
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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