增加光谱仪视野
公开
摘要
各方面涉及用于增加光谱仪的视场的机构。光学设备可以被配置为同时将来自样品上的不同位置(斑点)的光耦合到光谱仪，以有效地增加光谱仪的视场。光学设备可以包括合束器和至少一个反射器，该至少一个反射器用以将光束从样品上的相应斑点反射到合束器。合束器可以合并从不同斑点接收的光束，以产生可以输入到光谱仪的合并光束。
基本信息
专利标题 ：
增加光谱仪视野
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341604A
申请号 ：
CN202080061883.0
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·A·萨德克S·拉比布M·梅德哈特B·莫塔达
申请人 ：
斯维尔系统
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
酆迅
优先权 ：
CN202080061883.0
主分类号 ：
G01J3/42
IPC分类号 ：
G01J3/42 G01J3/10 G01J3/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法；分光光度测定法；单色器；测定颜色
G01J3/28
光谱测试
G01J3/42
吸收光谱法；双束光谱法；闪烁光谱法；反射光谱法
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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