用于纯化溶剂的系统及方法
公开
摘要
本发明涉及一种纯化溶剂的方法及系统。经纯化的溶剂可使用在多步骤半导体制造方法中清洁半导体基材。
基本信息
专利标题 ：
用于纯化溶剂的系统及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114340755A
申请号 ：
CN202080062031.3
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-08-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
S·E·戴尔B·T·莱恩老帕特里克·亚当斯·马哈尼
申请人 ：
富士胶片电子材料美国有限公司
申请人地址 ：
美国罗得岛州
代理机构 ：
北京博思佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
艾佳
优先权 ：
CN202080062031.3
主分类号 ：
B01D15/36
IPC分类号 ：
B01D15/36 B01D69/00 G03F7/42 B01D61/02 B01D61/18 B01D61/58
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D15/00
包含有用固体吸附剂处理液体的分离方法；及其所用设备
B01D15/08
选择吸附；如，色谱法
B01D15/26
以分离的机理为特征的
B01D15/36
涉及离子交互作用的，例如，离子交换、离子对、离子抑制或离子排除作用的
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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