7－氧杂－3,4－二氮杂双环［4.1.0］庚－4－烯－2...
公开
摘要
本发明涉及式(I)表示的化合物或其盐、以及含有选自它们中的至少一者作为有效成分的除草剂。在式(I)中，R1表示取代或无取代的C1～6烷基等，R2表示取代或无取代的C1～6烷基等，R3表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基等，并且Q表示取代或无取代的苯基等。
基本信息
专利标题 ：
7－氧杂－3,4－二氮杂双环［4.1.0］庚－4－烯－2－酮化合物和除草剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114375292A
申请号 ：
CN202080063624.1
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2020-09-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
三原健池田庸二泷友纪奈加登一成大冈浩仁藤井一成
申请人 ：
日本曹达株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
康晓宇
优先权 ：
CN202080063624.1
主分类号 ：
C07D491/044
IPC分类号 ：
C07D491/044 C07D519/00 A01N43/90 A01P13/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D491/00
杂环化合物，在稠环系中含有1个或多个有氧原子作为仅有的杂环原子的环，且含有1个或多个有氮原子作为仅有的杂环原子的环，不包含在C07D451/00至C07D459/00、C07D463/00、C07D477/00或C07D489/00组中
C07D491/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D491/04
邻位稠合系
C07D491/044
在含氧环上仅有1个氧原子作为杂环原子
法律状态
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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