用于前体气体喷射的方法和装置
公开
摘要
本公开提供了一种气体喷射系统，该气体喷射系统可以包括：壳体，其被配置为容纳多个前体储罐，该多个前体储罐包括一种或多种前体材料；以及喷嘴，其从壳体伸出，该喷嘴具有一尖端，其被配置为用于插入到材料处理设备的样本室中。前体储罐与喷嘴流体地连接，以选择性地将一种或多种前体气体输送到样本室中。
基本信息
专利标题 ：
用于前体气体喷射的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114423884A
申请号 ：
CN202080063778.0
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-08-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·格罗霍尔斯基V·雷J·法瓦塔
申请人 ：
MEO工程股份有限公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
朱海涛
优先权 ：
CN202080063778.0
主分类号 ：
C23C16/448
IPC分类号 ：
C23C16/448 C23C16/455 C23C16/48 C23C16/52 C23C16/54 B05B1/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
