气体控制方法和相关用途
公开
摘要
提供了一种用于在线控制辐射源的气体隔室的气体控制系统和方法。方法包括：测量辐射源(诸如准分子激光器)的参数，该参数描述了被施加到激光器的电刺激和/或由激光器生成的辐射的特征和/或气体隔室中的消耗品的量。参数的函数被与阈值进行比较，并且如果参数突破阈值，那么气体的量是基于参数来计算的。指令被提供为向气体隔室提供气体的量或从气体隔室移除气体的量。在使用辐射源期间，气体可以被注入或放散进入隔室中，从而减少或消除了对使辐射源离线以吹扫和重新填充气体隔室的需要。
基本信息
专利标题 ：
气体控制方法和相关用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114616729A
申请号 ：
CN202080065941.7
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-09-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
赵颖博
申请人 ：
西默有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080065941.7
主分类号 ：
H01S3/036
IPC分类号 ：
H01S3/036 H01S3/225
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
