用于放电激光器的传导构件
实质审查的生效
摘要
一种准分子激光器，包括放电室(12)和传导构件(22)，该传导构件(22)用于传导与激光器的放电室中的放电相关联的电流，该传导构件包括至少一个通道(26a至26d)，该至少一个通道(26a至26d)被配置用于：相对于传导构件的中心部分(34)中的电流流动路径，增加传导构件的端部分(32,34)中的电流流动路径，该传导构件被配置用于将激光器连接到电压源(24)，并且被配置为电压源与激光器的放电室之间提供接口。
基本信息
专利标题 ：
用于放电激光器的传导构件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114514477A
申请号 ：
CN202080070914.9
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·J·小艾芬伯格U·尼曼
申请人 ：
西默有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080070914.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200925
申请日 : 20200925
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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