在光刻设备中使用的光学部件和夹具
公开
摘要
本文描述了一种光学元件和包括光学元件的光刻设备。所述光学元件包括：第一构件，具有弯曲光学表面和传热表面；以及第二构件包括至少一个凹槽，至少一个凹槽抵靠传热表面密封以在第一构件和第二构件之间形成至少一个封闭通道，以允许流体流过，对所述弯曲光学表面进行热调节。在实施例中，传热表面的暴露于至少一个封闭通道的区域沿着类似于弯曲光学表面的弯曲轮廓的弯曲轮廓被定位。
基本信息
专利标题 ：
在光刻设备中使用的光学部件和夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114585973A
申请号 ：
CN202080074258.X
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
V·A·佩雷斯-福尔肯
申请人 ：
ASML控股股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
胡良均
优先权 ：
CN202080074258.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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