用于目标图案的基于规则的重靶向的方法
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摘要
本文描述一种用于产生用于待印刷于衬底上的目标图案的重靶向图案的方法。该方法包括：获得(i)包括至少一个特征的目标图案，该至少一个特征具有包括第一维度和第二维度的几何形状；以及(ii)多个偏差规则，该多个偏差规则被定义为第一维度、第二维度和与目标图案的在测量区域内的特征相关联的性质的函数；确定所述性质的在目标图案的至少一个特征上的多个位置处的值，每个位置均被所述测量区域包围；基于所述性质的所述值，从所述多个偏差规则中选择偏差的子集；以及通过将所选择的偏差的子集应用至目标图案的所述至少一个特征，产生重靶向图案。
基本信息
专利标题 ：
用于目标图案的基于规则的重靶向的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114600047A
申请号 ：
CN202080074277.2
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-09-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
艾曼·哈穆达
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN202080074277.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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