基于二氧化硅的消光配制物及其制造和使用方法
公开
摘要
公开了含有低孔隙体积二氧化硅粒子和高孔隙体积二氧化硅粒子的共混物形式的基于二氧化硅的消光剂的改进的涂料配制物。所述消光配制物可用于水性涂料组合物，从而为经涂布的基底提供优异的性质。在基底上由含有基于二氧化硅的消光剂的涂料配制物获得的膜出乎意料地为基底，特别是木材或塑料的表面提供改进的耐化学品性。也公开了制备和使用所述基于二氧化硅的消光配制物的方法。
基本信息
专利标题 ：
基于二氧化硅的消光配制物及其制造和使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114585672A
申请号 ：
CN202080075681.1
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-08-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
谷丰J·N·普赖尔M·科兰内
申请人 ：
格雷斯公司
申请人地址 ：
美国马里兰州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
郭佩
优先权 ：
CN202080075681.1
主分类号 ：
C08K3/36
IPC分类号 ：
C08K3/36 C09D7/42 C09D7/61 C09D7/44 C09D5/006
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08K
使用无机物或非高分子有机物作为配料
C08K3/00
使用无机物质作为混合配料
C08K3/34
含硅化合物
C08K3/36
二氧化硅
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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