用于基底的化学和/或电解表面处理的电化学沉积系统
公开
摘要
本发明涉及一种用于对基底进行化学和/或电解表面处理的电化学沉积系统、一种用于在工艺流体中对基底进行化学和/或电解表面处理的模块、一种用于金属沉积应用的电化学沉积系统或化学和/或电解表面处理模块的用途、以及一种用于对基底进行化学和/或电解表面处理的电化学沉积系统的制造方法。所述电化学沉积系统包括阳极、阳极外壳和单一电解液。阳极外壳至少部分地围绕阳极延伸。阳极外壳包括膜。阳极和阳极外壳被放置在单一电解液中。单一电解液是电化学沉积系统的唯一电解液。
基本信息
专利标题 ：
用于基底的化学和/或电解表面处理的电化学沉积系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114630927A
申请号 ：
CN202080076217.4
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-09-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
安德烈亚斯·格莱斯纳佛朗兹·马库特罗斯·库尔泽赫伯特·奥茨林格
申请人 ：
塞姆西斯科有限责任公司
申请人地址 ：
奥地利萨尔斯堡
代理机构 ：
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
潘彦君
优先权 ：
CN202080076217.4
主分类号 ：
C25D3/38
IPC分类号 ：
C25D3/38 C25D19/00 C25D17/10 C25D17/02 C25D21/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D3/00
电镀；其所用的镀液
C25D3/02
溶液
C25D3/38
铜的
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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