间隙配置部件
公开
摘要
本发明涉及由层叠结构构成的间隙配置部件，提供不易因加热而发生层间剥离的新型的间隙配置部件。本发明的间隙配置部件的特征在于，其是在溅射靶的基材(简称为“基材”)的表面侧配置多个靶部件时，沿着相邻的靶部件之间的间隙、介于上述靶部件与基材之间的间隙配置部件，其中，上述间隙配置部件形成在厚度方向上层叠三层以上而成的多层结构，在靶部件侧的层(也称为“表面层”)与基材侧的层(也称为“背面层”)之间具有中间层，构成上述中间层的材料的线膨胀系数在构成上述表面层的材料的线膨胀系数与构成上述背面层的材料的线膨胀系数之间的范围内。
基本信息
专利标题 ：
间隙配置部件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114630921A
申请号 ：
CN202080076435.8
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-08-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
矢野智泰打田龙彦寺村享祐广藤贤太郎
申请人 ：
三井金属矿业株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
陈建全
优先权 ：
CN202080076435.8
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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