一种陶瓷上釉前的加工处理工艺

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摘要

本发明公开了一种陶瓷上釉前的加工处理工艺，其使用了一种陶瓷加工处理装置，该陶瓷加工处理装置包括底座、固定单元以及执行单元，底座安装在地面，固定单元和执行单元安装在底座上，采用上述陶瓷加工处理装置对陶瓷加工处理的工艺如下:S1、上料；S2、打磨修坯；S3、洗水；S4、烘干；本发明可以解决现有的对陶瓷加工处理时存在的手工打磨操作效率低下，打磨产生的灰尘对工人健康有一定的影响，机器打磨操作往往会存在打磨死角，从而造成陶瓷成品存在瑕疵，并且打磨修坯后再对坯体进行洗水工作，工序不连续造成效率低下等问题。

基本信息

专利标题：

一种陶瓷上釉前的加工处理工艺

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112757459A

申请号：

CN202110017569.9

公开（公告）日：

2021-05-07

申请日：

2021-01-07

授权号：

CN112757459B

授权日：

2022-04-12

发明人：

孙玉浩张恩典

申请人：

孙玉浩

申请人地址：

江苏省南京市浦口区点将台路40号南京农业大学(浦口校区)

代理机构：

深圳泛航知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

邓爱军

优先权：

CN202110017569.9

主分类号：

B28B11/08

IPC分类号：

B28B11/08 B28B11/22 B28B11/24 B24B1/00