基于荷电调控制备抗菌抗污染过滤膜的方法

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摘要

本发明公开了一种基于荷电调控制备抗菌抗污染过滤膜的方法。所述的制备方法主要包括以下具体步骤：(1)将聚合物材料、荷负电两亲高分子和致孔剂溶于溶剂，得到均一稳定的制膜液；(2)将步骤(1)得到的制膜液经非溶剂诱导相分离，形成荷负电微孔底膜；(3)将步骤(2)得到的荷负电微孔底膜置于荷正电单体溶液中，并置于紫外灯下辐照，得到抗菌抗污染过滤膜。通过调控接枝条件，当过滤膜表面zeta电位在0.5～15.0mV时，过滤膜表现优异的抗菌抗污染性能。本方法具有操作简便、效果持久、表面性质可控的手段的改性手段。

基本信息

专利标题：

基于荷电调控制备抗菌抗污染过滤膜的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112808033A

申请号：

CN202110048102.0

公开（公告）日：

2021-05-18

申请日：

2021-01-14

授权号：

CN112808033B

授权日：

2022-05-10

发明人：

方立峰朱宝库朱明明喻文翰赵自豪崔荣璐沈宇杰邱泽霖薛云云

申请人：

浙江大学

申请人地址：

浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

代理机构：

杭州求是专利事务所有限公司

代理人：

郑海峰

优先权：

CN202110048102.0

主分类号：

B01D71/68

IPC分类号：

B01D71/68 B01D67/00