一种调整MEMS麦克风吸合电压的工艺方法
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摘要

本发明涉及一种调整MEMS麦克风吸合电压的工艺方法,MEMS麦克风包括基底、设置在基底上的振膜、及设置在振膜上的背板,基底具有空腔,调整MEMS麦克风吸合电压的工艺方法包括:提供等离子体化学气相沉积设备,等离子体化学气相沉积设备利用射频产生N2O等离子体,N2O等离子体穿过空腔作用在振膜上,在振膜上形成氮氧化硅层,改变MEMS麦克风的吸合电压,使得MEMS麦克风的吸合电压趋向减小分布,满足使用范围要求,提高产品良率,节约资源。

基本信息
专利标题 :
一种调整MEMS麦克风吸合电压的工艺方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112887895A
申请号 :
CN202110105032.8
公开(公告)日 :
2021-06-01
申请日 :
2021-01-26
授权号 :
CN112887895B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
吴庆才侯永涛
申请人 :
苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城中北区23幢3楼
代理机构 :
苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
唐静芳
优先权 :
CN202110105032.8
主分类号 :
H04R31/00
IPC分类号 :
H04R31/00  
法律状态
2022-06-07 :
授权
2021-06-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04R 31/00
申请日 : 20210126
2021-06-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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