双模介质滤波器及其零点调节方法
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摘要

本发明提供了一种双模介质滤波器及其零点调节方法,该双模介质滤波器包括第一谐振腔和第二谐振腔,还包括位于第一谐振腔和第二谐振腔之间的多个双模介质块,每一双模介质块的外部套设有一个金属腔,与第一谐振腔相邻的双模介质块与第一谐振腔之间设有第一耦合结构,与第二谐振腔相邻的双模介质块与第二谐振腔之间设有第二耦合结构,每相邻两个双模介质块之间设有第三耦合结构,第三耦合结构为隔片,金属腔与相邻的隔片共同形成谐振腔,隔片上开设有耦合窗口,耦合窗口包括至少一个第一条形孔,第一条形孔沿长度方向的中心线与隔片的第一中轴线平行,第一条形孔在所述第一中轴线上的投影远离隔片的中心。本发明能够改善谐波。

基本信息
专利标题 :
双模介质滤波器及其零点调节方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112928410A
申请号 :
CN202110111465.4
公开(公告)日 :
2021-06-08
申请日 :
2021-01-27
授权号 :
CN112928410B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
许建军
申请人 :
武汉凡谷电子技术股份有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市江夏区光谷大道藏龙岛九凤街5号凡谷电子工业园4号楼2楼
代理机构 :
北京汇泽知识产权代理有限公司
代理人 :
秦曼妮
优先权 :
CN202110111465.4
主分类号 :
H01P1/212
IPC分类号 :
H01P1/212  H01P1/20  H01P1/208  
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法律状态
2022-05-31 :
授权
2021-06-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01P 1/212
申请日 : 20210127
2021-06-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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