压力调节系统、方法和设备

授权

摘要

本公开涉及真空技术领域，具体地，涉及一种压力调节系统、方法和设备，所述压力调节系统包括主控制回路，分别与所述主控制回路连接的第一辅助控制回路和第二辅助控制回路所述主控制回路包括待调节压力的密封腔体，与所述密封腔体的出气口连接的第一调节阀，与所述密封腔体的进气口连接的第二调节阀，以及与所述第一调节阀连接的主控制器；所述第一辅助控制回路包括第一稳压罐，与所述第一稳压罐连接的第三调节阀，以及与所述第三调节阀连接的第一辅助控制器；所述第二辅助控制回路包括第二稳压罐，与所述第二稳压罐连接的第四调节阀，以及与所述第四调节阀连接的第二辅助控制器，通过所述压力调节系统，对所述腔体内的压力进行高精度地调节。

基本信息

专利标题：

压力调节系统、方法和设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112947613A

申请号：

CN202110163681.3

公开（公告）日：

2021-06-11

申请日：

2021-02-05

授权号：

CN112947613B

授权日：

2022-06-07

发明人：

李青李赫然程志悦王耀君胡恒广范少荣

申请人：

河北光兴半导体技术有限公司;东旭光电科技股份有限公司;东旭科技集团有限公司

申请人地址：

河北省石家庄市高新区黄河大道9号

代理机构：

北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

张岩龙

优先权：

CN202110163681.3

主分类号：

G05D16/20

IPC分类号：

G05D16/20