一种光磁响应的自修复形状记忆复合材料及其制备和应用
授权
摘要
本发明涉及一种光磁响应的自修复形状记忆复合材料及其制备和应用，属于功能复合材料技术领域。本发明提供一种光磁响应的自修复形状记忆复合材料，所述复合材料包括下述比例的原料：形状记忆聚合物基体100重量份，功能填料1～20重量份；其中，所述功能填料为能够同时响应光和磁刺激的填料。本发明所得光磁响应的自修复形状记忆复合材料可同时响应光和磁刺激，协同控制实现形状重构和可逆变化，同时具有优异的形状记忆辅助自修复性能。
基本信息
专利标题 ：
一种光磁响应的自修复形状记忆复合材料及其制备和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112980165A
申请号 ：
CN202110209398.X
公开（公告）日 ：
2021-06-18
申请日 ：
2021-02-25
授权号 ：
CN112980165B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
尹波陈屹李艳靳兆远杨鸣波
申请人 ：
四川大学
申请人地址 ：
四川省成都市一环路南一段24号
代理机构 ：
成都点睛专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘文娟
优先权 ：
CN202110209398.X
主分类号 ：
C08L67/04
IPC分类号 ：
C08L67/04 C08L75/04 C08K9/10 C08K3/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L67/00
由主链中形成1个羧酸酯键反应得到的聚酯的组合物；此种聚合物的衍生物的组合物
C08L67/04
由羟基酸得到的聚酯，如内酯
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2021-07-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08L 67/04
申请日 : 20210225
申请日 : 20210225
2021-06-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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