一种低迁移咔唑基酰基膦光引发剂及其合成方法
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摘要

本发明公开了一种低迁移咔唑基酰基膦光引发剂及其合成方法。该光引发剂的结构如下式[Ⅰ]所示。该方法利用Vilsmeier甲酰化在N‑取代咔唑分子内引入醛基,卤代后在乙酸乙酯中和二苯基膦氧发生亲核加成直接过滤即可得到中间产物,最后进行氧化,可以高产率地得到光引发剂。本发明公开的光引发剂具有引发效率高,迁移性低等优点,适合UV‑LED光源,具有良好的工业应用价值。

基本信息
专利标题 :
一种低迁移咔唑基酰基膦光引发剂及其合成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113024691A
申请号 :
CN202110302712.9
公开(公告)日 :
2021-06-25
申请日 :
2021-03-22
授权号 :
CN113024691B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
李睿黄洪司徒粤吴银萍
申请人 :
华南理工大学
申请人地址 :
广东省广州市天河区五山路381号
代理机构 :
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 :
何淑珍
优先权 :
CN202110302712.9
主分类号 :
C08F2/48
IPC分类号 :
C08F2/48  C07F9/572  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F2/00
聚合工艺过程
C08F2/46
波能或粒子辐射引发的聚合作用
C08F2/48
用紫外光或可见光
法律状态
2022-05-24 :
授权
2021-07-13 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08F 2/48
申请日 : 20210322
2021-06-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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