溅射板抛物面反射器天线馈源加工误差的测量检测方法

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摘要

本发明提供了一种溅射板抛物面反射器天线馈源加工误差的测量检测方法，属于反射器天线馈源测量检测技术领域，通过在溅射板馈源的辐射方向引入一半球形反射面，对半球形反射面与溅射板馈源的组合进行近场测量，根据近场测量结果判断溅射板馈源实物是否存在加工误差。以工作于20.5GHz的溅射板抛物面反射器天线为例，进行模拟馈源检测，验证了该测量检测方法的可行性。本发明相对远场测量和直接近场测量，极大地缩小了近场扫描尺寸，且具有易操作，成本低，加工难度小和误差灵敏度高的优点，该方法还可用于测量不同类型的溅射板馈源，为溅射板抛物面反射器天线的批量加工生产提供了有益的指导。

基本信息

专利标题：

溅射板抛物面反射器天线馈源加工误差的测量检测方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113065245A

申请号：

CN202110318866.7

公开（公告）日：

2021-07-02

申请日：

2021-03-25

授权号：

CN113065245B

授权日：

2022-04-29

发明人：

何十全闵捷

申请人：

电子科技大学

申请人地址：

四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

代理机构：

成都正华专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

李蕊

优先权：

CN202110318866.7

主分类号：

G06F30/20

IPC分类号：

G06F30/20 G06F30/17 G01R29/10