一种电镀残液清除装置及清除方法
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摘要

本发明涉及一种电镀残液清除装置及清除方法,该装置包括外仓和内仓;外仓和内仓之间设有将外仓的内部分为上密封腔和下密封腔的密封板,内仓的下端开设有与下密封腔连通的开口,内仓位于上穿设有向内仓内吹气的多个气嘴;外仓上设有为气嘴供气的第一气压源且其气压输入端与上密封腔连通;内仓的顶部转动设置有用于固定镀件架的挂钩组件,密封板的下方设有冷凝器,上密封腔与下密封腔通过冷凝器连通;外仓上还设有平衡其内部气压的气压平衡组件,外仓的底部设有回流管,外仓和内仓的前端均设有操作口以及密封操作口的活动仓门,通过将镀件置于内仓内,进一步通过气嘴将镀件表面的残液吹除干净,进而避免了操作员与电镀残液的直接接触。

基本信息
专利标题 :
一种电镀残液清除装置及清除方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113249759A
申请号 :
CN202110351921.2
公开(公告)日 :
2021-08-13
申请日 :
2021-03-31
授权号 :
CN113249759B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
周家军
申请人 :
深圳市鑫标特自动化科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区宝龙街道同心社区同心路85号K栋102
代理机构 :
深圳市科冠知识产权代理有限公司
代理人 :
王海骏
优先权 :
CN202110351921.2
主分类号 :
C25D5/48
IPC分类号 :
C25D5/48  F26B11/18  F26B21/00  F26B25/18  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D5/00
以工艺方法为特征的电镀;工件的预处理或后处理
C25D5/48
电镀表面的后处理
法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-08-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 5/48
申请日 : 20210331
2021-08-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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