一种半导体晶圆阶梯切割用高强度划片刀及制作方法
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摘要
本发明公开的一种半导体晶圆阶梯切割用高强度划片刀及制作方法,刀刃靠近盘状基体段的厚度大于远离盘状基体段的厚度,消除电镀过程中尖端效应导致的刀刃根部过于薄弱的缺点,可以将刀刃长度做的更长,进而可以提高划片刀划切半导体晶圆的使用寿命;从原理上实现刀刃厚度一致,可以直接提高划片刀的极限转速和进刀速度,进而可以提高加工效率;刀片反复参与切割,刀刃根部疲劳断裂容易导致的过早断刀,而刀刃根部的强化可以延迟断刀的发生,刀刃根部的强化,可以减少切割过程中的刀刃摆动,减少切割过程中的正崩、背崩以及侧裂。
基本信息
专利标题 :
一种半导体晶圆阶梯切割用高强度划片刀及制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113172779A
申请号 :
CN202110359262.7
公开(公告)日 :
2021-07-27
申请日 :
2021-04-01
授权号 :
CN113172779B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
闫贺亮邵俊永王战乔帅董峰窦文海陈月涛高鹏
申请人 :
郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
申请人地址 :
河南省郑州市高新区梧桐街121号
代理机构 :
郑州联科专利事务所(普通合伙)
代理人 :
程世芳
优先权 :
CN202110359262.7
主分类号 :
B28D5/02
IPC分类号 :
B28D5/02 B24B1/00 C25D3/12 C25D7/00 C25D15/00 C25D21/10 H01L21/78
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B28
加工水泥、黏土或石料
B28D
加工石头或类似石头的材料
B28D5/00
宝石、宝石饰物、结晶体的精细加工,例如半导体材料的精加工;所用设备
B28D5/02
用旋转工具的,例如钻具
法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-08-13 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B28D 5/02
申请日 : 20210401
申请日 : 20210401
2021-07-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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