阵列基板和显示面板
授权
摘要

本申请公开了一种阵列基板,包括衬底、色阻层、平坦保护层、薄膜晶体管、钝化层和导电层;所述色阻层设置于所述衬底上;所述平坦保护层整面覆盖所述色阻层;所述薄膜晶体管设置于所述平坦保护层上,所述薄膜晶体管包括设于所述平坦保护层上的源极与漏极、有源层,及平坦保护层上的栅极绝缘层、设于栅极绝缘层上方的栅极;所述钝化层设置于所述栅极上;所述导电层设置于所述钝化层上,所述导电层包括像素电极;所述导电层上开设有对应所述漏极上方的过孔,所述像素电极通过所述过孔与所述漏极相连接。本申请通过将薄膜晶体管置于色阻层上方,并采用顶栅结构减小过孔深度,从而有效的避免PI mura问题。

基本信息
专利标题 :
阵列基板和显示面板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113485039A
申请号 :
CN202110600245.8
公开(公告)日 :
2021-10-08
申请日 :
2021-05-31
授权号 :
CN113485039B
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
薛兴皓郑浩旋
申请人 :
惠科股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房1栋一层至三层、五至七层,6栋七层
代理机构 :
深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
邢涛
优先权 :
CN202110600245.8
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333  H01L27/12  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2022-04-19 :
授权
2021-10-26 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1333
申请日 : 20210531
2021-10-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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